中国光刻机技术获重大突破

中国光刻机技术取得最新重大突破，实现了重要技术指标的突破和自主创新能力的提升。此次突破将加速国内半导体产业的发展，提高光刻机制造的精度和效率，有望缩小与国际先进水平的差距。这一技术的突破将进一步推动中国在全球半导体产...

阅读全文 ◆﹎Xx:-惢 6310 次浏览 2025-01-14 系统服务